ਸਪਟਰਡ ਟਾਰਗੇਟ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਦੌਰਾਨ ਉੱਚ ਲੋੜਾਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ, ਨਾ ਸਿਰਫ਼ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਕਣਾਂ ਦੇ ਆਕਾਰ ਲਈ, ਸਗੋਂ ਇਕਸਾਰ ਕਣ ਦੇ ਆਕਾਰ ਲਈ ਵੀ।ਇਹ ਉੱਚ ਲੋੜਾਂ ਸਾਨੂੰ ਸਪਟਰਿੰਗ ਟਾਰਗੇਟ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਸਮੇਂ ਵਧੇਰੇ ਧਿਆਨ ਦੇਣ ਲਈ ਮਜਬੂਰ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ।
1. ਸਪਟਰਿੰਗ ਦੀ ਤਿਆਰੀ
ਵੈਕਿਊਮ ਚੈਂਬਰ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਸਪਟਰਿੰਗ ਸਿਸਟਮ ਦੀ ਸਫਾਈ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣਾ ਬਹੁਤ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ।ਲੁਬਰੀਕੈਂਟ, ਧੂੜ, ਅਤੇ ਪਿਛਲੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਤੋਂ ਕੋਈ ਵੀ ਰਹਿੰਦ-ਖੂੰਹਦ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਕਾਂ ਨੂੰ ਇਕੱਠਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਪਾਣੀ, ਸਿੱਧੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵੈਕਿਊਮ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਦੀ ਅਸਫਲਤਾ ਦੀ ਸੰਭਾਵਨਾ ਨੂੰ ਵਧਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਸ਼ਾਰਟ ਸਰਕਟ, ਟਾਰਗੇਟ ਆਰਸਿੰਗ, ਮੋਟੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਬਣਾਉਣ ਵਾਲੀਆਂ ਸਤਹਾਂ, ਅਤੇ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਰਸਾਇਣਕ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਸ਼ੁੱਧ ਸਪਟਰਿੰਗ ਚੈਂਬਰਾਂ, ਬੰਦੂਕਾਂ ਅਤੇ ਨਿਸ਼ਾਨਿਆਂ ਕਾਰਨ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ।
ਕੋਟਿੰਗ ਦੀਆਂ ਰਚਨਾਤਮਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਕਾਇਮ ਰੱਖਣ ਲਈ, ਸਪਟਰਿੰਗ ਗੈਸ (ਆਰਗਨ ਜਾਂ ਆਕਸੀਜਨ) ਸਾਫ਼ ਅਤੇ ਸੁੱਕੀ ਹੋਣੀ ਚਾਹੀਦੀ ਹੈ।ਸਪਟਰਿੰਗ ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਸਬਸਟਰੇਟ ਨੂੰ ਸਥਾਪਿਤ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਲਈ ਲੋੜੀਂਦੇ ਵੈਕਿਊਮ ਪੱਧਰ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਹਵਾ ਨੂੰ ਕੱਢਣ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।
2. ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਫਾਈ
ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਫਾਈ ਦਾ ਉਦੇਸ਼ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਮੌਜੂਦ ਕਿਸੇ ਵੀ ਧੂੜ ਜਾਂ ਗੰਦਗੀ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣਾ ਹੈ।
3. ਟੀਚਾ ਸਥਾਪਨਾ
ਟਾਰਗੇਟ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਥਾਪਨਾ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਧਿਆਨ ਦੇਣ ਵਾਲੀ ਸਭ ਤੋਂ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਗੱਲ ਇਹ ਹੈ ਕਿ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਅਤੇ ਸਪਟਰਿੰਗ ਬੰਦੂਕ ਦੀ ਕੂਲਿੰਗ ਕੰਧ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਇੱਕ ਵਧੀਆ ਥਰਮਲ ਕਨੈਕਸ਼ਨ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਇਆ ਜਾਵੇ।ਜੇਕਰ ਕੂਲਿੰਗ ਕੰਧ ਜਾਂ ਪਿਛਲੀ ਪਲੇਟ ਬੁਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਵਿਗੜ ਗਈ ਹੈ, ਤਾਂ ਇਹ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਥਾਪਨਾ ਦੌਰਾਨ ਕ੍ਰੈਕਿੰਗ ਜਾਂ ਝੁਕਣ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦੀ ਹੈ।ਪਿਛਲੇ ਟੀਚੇ ਤੋਂ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਤੱਕ ਤਾਪ ਦਾ ਤਬਾਦਲਾ ਬਹੁਤ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਹੋਵੇਗਾ, ਜਿਸਦੇ ਸਿੱਟੇ ਵਜੋਂ ਥੁੱਕਣ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਗਰਮੀ ਨੂੰ ਖਤਮ ਕਰਨ ਵਿੱਚ ਅਸਮਰੱਥਾ, ਅੰਤ ਵਿੱਚ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਚੀਰ ਜਾਂ ਭਟਕਣ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣਦਾ ਹੈ।
4. ਸ਼ਾਰਟ ਸਰਕਟ ਅਤੇ ਸੀਲਿੰਗ ਨਿਰੀਖਣ
ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਥਾਪਨਾ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਪੂਰੇ ਕੈਥੋਡ ਦੀ ਸ਼ਾਰਟ ਸਰਕਟ ਅਤੇ ਸੀਲਿੰਗ ਦੀ ਜਾਂਚ ਕਰਨਾ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹੈ.ਇਹ ਪਤਾ ਲਗਾਉਣ ਲਈ ਇੱਕ ਓਮਮੀਟਰ ਅਤੇ ਇੱਕ ਮੇਗੋਹਮੀਟਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਦੀ ਸਿਫਾਰਸ਼ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਕਿ ਕੀ ਕੈਥੋਡ ਸ਼ਾਰਟ ਸਰਕਟ ਹੈ।ਇਹ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਕਿ ਕੈਥੋਡ ਸ਼ਾਰਟ ਸਰਕਟ ਨਹੀਂ ਹੈ, ਇਹ ਪਤਾ ਲਗਾਉਣ ਲਈ ਕਿ ਕੀ ਕੋਈ ਲੀਕ ਹੈ, ਕੈਥੋਡ ਵਿੱਚ ਪਾਣੀ ਦਾ ਟੀਕਾ ਲਗਾ ਕੇ ਇੱਕ ਲੀਕ ਖੋਜ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।
5. ਸਪਟਰਿੰਗ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ
ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਪੂਰਵ-ਸਪਟਰਿੰਗ ਲਈ ਸ਼ੁੱਧ ਆਰਗਨ ਗੈਸ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਦੀ ਸਿਫਾਰਸ਼ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਨੂੰ ਸਾਫ਼ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਲਈ ਪੂਰਵ-ਸਪਟਰਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਹੌਲੀ-ਹੌਲੀ ਥੁੱਕਣ ਦੀ ਸ਼ਕਤੀ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਦੀ ਸਿਫਾਰਸ਼ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਵਸਰਾਵਿਕ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸ਼ਕਤੀ
ਪੋਸਟ ਟਾਈਮ: ਅਕਤੂਬਰ-19-2023