ਇਸ ਅਧਿਐਨ ਵਿੱਚ, ਅਸੀਂ RF ਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ RF-PECVD ਦੁਆਰਾ ਸਹਿ-ਜਮਾਣ ਦੌਰਾਨ ਮਾਈਕ੍ਰੋਕਾਰਬਨ ਸਰੋਤਾਂ ਵਿੱਚ ਸੰਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕੀਤੇ Cu/Ni ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲਾਂ ਦੀ ਜਾਂਚ ਕੀਤੀ, ਨਾਲ ਹੀ Cu/Ni ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ CO ਗੈਸ ਦੀ ਖੋਜ ਲਈ ਸਥਾਨਿਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਗੂੰਜ।ਕਣਾਂ ਦੀ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ।ਚਿੱਤਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਅਤੇ ਫ੍ਰੈਕਟਲ/ਮਲਟੀਫ੍ਰੈਕਟਲ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ 3D ਪਰਮਾਣੂ ਬਲ ਮਾਈਕ੍ਰੋਗ੍ਰਾਫਾਂ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕਰਕੇ ਸਰਫੇਸ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਅੰਕੜਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ MountainsMap® ਪ੍ਰੀਮੀਅਮ ਸੌਫਟਵੇਅਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਵਿਭਿੰਨਤਾ ਦੇ ਦੋ-ਪੱਖੀ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ (ANOVA) ਅਤੇ ਘੱਟੋ-ਘੱਟ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਅੰਤਰ ਟੈਸਟ ਦੇ ਨਾਲ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਸਰਫੇਸ ਨੈਨੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਦੀ ਸਥਾਨਕ ਅਤੇ ਗਲੋਬਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਵੰਡ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ ਅਤੇ ਸਿਮੂਲੇਟਿਡ ਰਦਰਫੋਰਡ ਬੈਕਸਕੈਟਰਿੰਗ ਸਪੈਕਟਰਾ ਨੇ ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕੀਤੀ।ਤਾਜ਼ੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਨਮੂਨੇ ਫਿਰ ਇੱਕ ਕਾਰਬਨ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਚਿਮਨੀ ਦੇ ਸੰਪਰਕ ਵਿੱਚ ਆਏ ਅਤੇ ਇੱਕ ਗੈਸ ਸੈਂਸਰ ਵਜੋਂ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਦੀ ਸਥਾਨਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਗੂੰਜ ਦੀ ਵਿਧੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਜਾਂਚ ਕੀਤੀ ਗਈ।ਤਾਂਬੇ ਦੀ ਪਰਤ ਦੇ ਸਿਖਰ 'ਤੇ ਨਿਕਲ ਦੀ ਪਰਤ ਨੂੰ ਜੋੜਨ ਨਾਲ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਅਤੇ ਗੈਸ ਖੋਜ ਦੋਵਾਂ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਦਿਲਚਸਪ ਨਤੀਜੇ ਸਾਹਮਣੇ ਆਏ।ਰਦਰਫੋਰਡ ਬੈਕਸਕੈਟਰਿੰਗ ਸਪੈਕਟਰੋਸਕੋਪੀ ਅਤੇ ਸਪੈਕਟਰੋਸਕੋਪਿਕ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਦੇ ਨਾਲ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ ਸਤਹ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫੀ ਦੇ ਉੱਨਤ ਸਟੀਰੀਓ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਦਾ ਸੁਮੇਲ ਇਸ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਵਿਲੱਖਣ ਹੈ।
ਪਿਛਲੇ ਕੁਝ ਦਹਾਕਿਆਂ ਵਿੱਚ ਤੇਜ਼ ਹਵਾ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਉਦਯੋਗੀਕਰਨ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਨੇ ਖੋਜਕਰਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਗੈਸਾਂ ਦਾ ਪਤਾ ਲਗਾਉਣ ਦੇ ਮਹੱਤਵ ਬਾਰੇ ਹੋਰ ਜਾਣਨ ਲਈ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਕੀਤਾ ਹੈ।ਧਾਤੂ ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲਜ਼ (NPs) ਨੂੰ ਗੈਸ ਸੈਂਸਰਾਂ 1,2,3,4 ਲਈ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਸਮੱਗਰੀ ਵਜੋਂ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ ਭਾਵੇਂ ਕਿ ਸਥਾਨਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਰੈਜ਼ੋਨੈਂਸ (LSPR) ਦੇ ਸਮਰੱਥ ਪਤਲੀਆਂ ਧਾਤ ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਜੋ ਕਿ ਇੱਕ ਅਜਿਹਾ ਪਦਾਰਥ ਹੈ ਜੋ ਮਜ਼ਬੂਤ ਅਤੇ ਸੀਮਤ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਨਾਲ ਗੂੰਜਦਾ ਹੈ। ਖੇਤਰ 5,6,7,8।ਇੱਕ ਸਸਤੀ, ਘੱਟ-ਜ਼ਹਿਰੀਲੀ, ਅਤੇ ਬਹੁਮੁਖੀ ਪਰਿਵਰਤਨ ਧਾਤ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਤਾਂਬੇ ਨੂੰ ਵਿਗਿਆਨੀਆਂ ਅਤੇ ਉਦਯੋਗਾਂ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਸੈਂਸਰ ਨਿਰਮਾਤਾਵਾਂ ਦੁਆਰਾ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੱਤ ਮੰਨਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਦੂਜੇ ਪਾਸੇ, ਨਿਕਲ ਪਰਿਵਰਤਨ ਧਾਤ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਦੂਜੇ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ 10 ਨਾਲੋਂ ਵਧੀਆ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਨੈਨੋਸਕੇਲ 'ਤੇ Cu/Ni ਦਾ ਜਾਣਿਆ-ਪਛਾਣਿਆ ਉਪਯੋਗ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਹੋਰ ਵੀ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਕਿਉਂਕਿ ਉਹਨਾਂ ਦੀਆਂ ਬਣਤਰ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਫਿਊਜ਼ਨ11,12 ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਨਹੀਂ ਬਦਲਦੀਆਂ ਹਨ।
ਜਦੋਂ ਕਿ ਧਾਤ ਦੇ ਨੈਨੋ ਕਣਾਂ ਅਤੇ ਡਾਈਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਮਾਧਿਅਮ ਦੇ ਨਾਲ ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਇੰਟਰਫੇਸ ਸਥਾਨਿਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਗੂੰਜਾਂ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤਬਦੀਲੀਆਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਗੈਸ ਖੋਜ 13 ਲਈ ਬਿਲਡਿੰਗ ਬਲਾਕਾਂ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਜਦੋਂ ਸਮਾਈ ਸਪੈਕਟ੍ਰਮ ਬਦਲਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਇਸਦਾ ਮਤਲਬ ਹੈ ਕਿ ਗੂੰਜਦੀ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਅਤੇ/ਜਾਂ ਸੋਖਣ ਪੀਕ ਤੀਬਰਤਾ ਅਤੇ/ਜਾਂ FWHM ਦੇ ਤਿੰਨ ਕਾਰਕ 1, 2, 3, 4 ਦੁਆਰਾ ਬਦਲ ਸਕਦੇ ਹਨ। ਨੈਨੋਸਟ੍ਰਕਚਰਡ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ, ਜੋ ਸਿੱਧੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕਣਾਂ ਦੇ ਆਕਾਰ, ਸਥਾਨਿਕ ਸਤਹ ਨਾਲ ਸਬੰਧਤ ਹਨ। ਨੈਨੋ ਕਣਾਂ ਵਿੱਚ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਗੂੰਜ, ਨਾ ਕਿ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ, ਅਣੂ ਸੋਖਣ ਦੀ ਪਛਾਣ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਕਾਰਕ ਹੈ14, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਰੁਇਜ਼ ਐਟ ਅਲ ਦੁਆਰਾ ਵੀ ਦਰਸਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਬਰੀਕ ਕਣਾਂ ਅਤੇ ਖੋਜ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਸਬੰਧ ਨੂੰ ਦਿਖਾਇਆ।
CO ਗੈਸ ਦੀ ਆਪਟੀਕਲ ਖੋਜ ਦੇ ਸੰਬੰਧ ਵਿੱਚ, ਸਾਹਿਤ ਵਿੱਚ ਕੁਝ ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਸਮੱਗਰੀ ਜਿਵੇਂ ਕਿ AuCo3O416, Au-CuO17 ਅਤੇ Au-YSZ18 ਦੀ ਰਿਪੋਰਟ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ।ਅਸੀਂ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੋਜ਼ਸ਼ ਗੈਸ ਦੇ ਅਣੂਆਂ ਦਾ ਪਤਾ ਲਗਾਉਣ ਲਈ ਸੋਨੇ ਨੂੰ ਮੈਟਲ ਆਕਸਾਈਡ ਨਾਲ ਇਕੱਠੀ ਕੀਤੀ ਇੱਕ ਉੱਤਮ ਧਾਤ ਵਜੋਂ ਸੋਚ ਸਕਦੇ ਹਾਂ, ਪਰ ਸੈਂਸਰਾਂ ਦੀ ਮੁੱਖ ਸਮੱਸਿਆ ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਪਹੁੰਚਯੋਗ ਨਹੀਂ ਬਣਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
ਪਿਛਲੇ ਕੁਝ ਦਹਾਕਿਆਂ ਤੋਂ, ਐਟਮੀ ਫੋਰਸ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਕੋਪੀ (AFM) ਨੂੰ ਉੱਚ ਨੈਨੋਸਕੇਲ ਰੈਜ਼ੋਲਿਊਸ਼ਨ 19,20,21,22 'ਤੇ ਤਿੰਨ-ਅਯਾਮੀ ਸਤਹ ਮਾਈਕ੍ਰੋਮੋਰਫੌਲੋਜੀ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਣ ਲਈ ਇੱਕ ਉੱਨਤ ਤਕਨੀਕ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਸਟੀਰੀਓ, ਫ੍ਰੈਕਟਲ/ਮਲਟੀਫ੍ਰੈਕਟਲ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ23,24,25,26, ਪਾਵਰ ਸਪੈਕਟ੍ਰਲ ਘਣਤਾ (PSD)27 ਅਤੇ ਮਿੰਕੋਵਸਕੀ 28 ਫੰਕਸ਼ਨਲ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫੀ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਣ ਲਈ ਅਤਿ-ਆਧੁਨਿਕ ਟੂਲ ਹਨ।
ਇਸ ਅਧਿਐਨ ਵਿੱਚ, ਸਥਾਨਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਰੈਜ਼ੋਨੈਂਸ (LSPR) ਸਮਾਈ ਦੇ ਅਧਾਰ ਤੇ, ਐਸੀਟਿਲੀਨ (C2H2) Cu/Ni NP ਟਰੇਸ ਨੂੰ CO ਗੈਸ ਸੈਂਸਰ ਵਜੋਂ ਵਰਤਣ ਲਈ ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਰਦਰਫੋਰਡ ਬੈਕਸਕੈਟਰ ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਸਕੋਪੀ (RBS) ਦੀ ਵਰਤੋਂ AFM ਚਿੱਤਰਾਂ ਤੋਂ ਰਚਨਾ ਅਤੇ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ, ਅਤੇ ਸਤਹ ਦੇ ਆਈਸੋਟ੍ਰੋਪੀ ਅਤੇ ਸਤਹ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਦੇ ਸਾਰੇ ਵਾਧੂ ਮਾਈਕ੍ਰੋਮੋਰਫੌਲੋਜੀਕਲ ਪੈਰਾਮੀਟਰਾਂ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕਰਨ ਲਈ MountainsMap® ਪ੍ਰੀਮੀਅਮ ਸੌਫਟਵੇਅਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ 3D ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਨਕਸ਼ੇ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਦੂਜੇ ਪਾਸੇ, ਨਵੇਂ ਵਿਗਿਆਨਕ ਨਤੀਜੇ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕੀਤੇ ਗਏ ਹਨ ਜੋ ਉਦਯੋਗਿਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ 'ਤੇ ਲਾਗੂ ਕੀਤੇ ਜਾ ਸਕਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਗੈਸ ਖੋਜ (CO) ਲਈ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਵਿੱਚ ਬਹੁਤ ਦਿਲਚਸਪੀ ਰੱਖਦੇ ਹਨ।ਸਾਹਿਤ ਪਹਿਲੀ ਵਾਰ ਇਸ ਨੈਨੋਪਾਰਟੀਕਲ ਦੇ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ, ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਅਤੇ ਉਪਯੋਗ ਦੀ ਰਿਪੋਰਟ ਕਰਦਾ ਹੈ।
Cu/Ni ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੀ ਇੱਕ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ 13.56 MHz ਪਾਵਰ ਸਪਲਾਈ ਦੇ ਨਾਲ RF ਸਪਟਰਿੰਗ ਅਤੇ RF-PECVD ਕੋ-ਡਿਪੋਜ਼ੀਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਵਿਧੀ ਵੱਖ ਵੱਖ ਸਮੱਗਰੀ ਅਤੇ ਆਕਾਰ ਦੇ ਦੋ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਰਿਐਕਟਰ 'ਤੇ ਅਧਾਰਿਤ ਹੈ.ਛੋਟਾ ਇੱਕ ਊਰਜਾਵਾਨ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਧਾਤ ਹੈ, ਅਤੇ ਵੱਡਾ ਇੱਕ ਇੱਕ ਦੂਜੇ ਤੋਂ 5 ਸੈਂਟੀਮੀਟਰ ਦੀ ਦੂਰੀ 'ਤੇ ਇੱਕ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਦੇ ਚੈਂਬਰ ਦੁਆਰਾ ਆਧਾਰਿਤ ਹੈ।SiO 2 ਸਬਸਟਰੇਟ ਅਤੇ Cu ਟਾਰਗੇਟ ਨੂੰ ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਰੱਖੋ, ਫਿਰ ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਬੇਸ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਚੈਂਬਰ ਨੂੰ 103 N/m 2 ਤੱਕ ਖਾਲੀ ਕਰੋ, ਚੈਂਬਰ ਵਿੱਚ ਐਸੀਟੀਲੀਨ ਗੈਸ ਦਾਖਲ ਕਰੋ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਅੰਬੀਨਟ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ ਲਈ ਦਬਾਅ ਪਾਓ।ਇਸ ਪੜਾਅ ਵਿੱਚ ਐਸੀਟਿਲੀਨ ਗੈਸ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਦੇ ਦੋ ਮੁੱਖ ਕਾਰਨ ਹਨ: ਪਹਿਲਾ, ਇਹ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਉਤਪਾਦਨ ਲਈ ਇੱਕ ਕੈਰੀਅਰ ਗੈਸ ਵਜੋਂ ਕੰਮ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਦੂਜਾ, ਕਾਰਬਨ ਦੀ ਟਰੇਸ ਮਾਤਰਾ ਵਿੱਚ ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ।ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 3.5 N/m2 ਅਤੇ 80 W ਦੀ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਗੈਸ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ ਅਤੇ RF ਪਾਵਰ 'ਤੇ 30 ਮਿੰਟ ਲਈ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਫਿਰ ਵੈਕਿਊਮ ਨੂੰ ਤੋੜੋ ਅਤੇ ਨਿਸ਼ਾਨਾ ਨੂੰ ਨੀ ਵਿੱਚ ਬਦਲੋ.ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 2.5 N/m2 ਅਤੇ 150 W ਦੀ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਗੈਸ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ ਅਤੇ RF ਪਾਵਰ 'ਤੇ ਦੁਹਰਾਇਆ ਗਿਆ ਸੀ।ਅੰਤ ਵਿੱਚ, ਇੱਕ ਐਸੀਟੀਲੀਨ ਵਾਯੂਮੰਡਲ ਵਿੱਚ ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਏ ਤਾਂਬੇ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਨੈਨੋਕਣ ਤਾਂਬਾ/ਨਿਕਲ ਨੈਨੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ।ਨਮੂਨੇ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਅਤੇ ਪਛਾਣਕਰਤਾਵਾਂ ਲਈ ਸਾਰਣੀ 1 ਦੇਖੋ।
ਤਾਜ਼ੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਨਮੂਨਿਆਂ ਦੇ 3D ਚਿੱਤਰਾਂ ਨੂੰ 10-20 μm/ਮਿੰਟ ਦੀ ਸਕੈਨਿੰਗ ਸਪੀਡ 'ਤੇ ਗੈਰ-ਸੰਪਰਕ ਮੋਡ ਵਿੱਚ ਨੈਨੋਮੀਟਰ ਮਲਟੀਮੋਡ ਐਟੋਮਿਕ ਫੋਰਸ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਕੋਪ (ਡਿਜੀਟਲ ਇੰਸਟਰੂਮੈਂਟਸ, ਸੈਂਟਾ ਬਾਰਬਰਾ, CA) ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ 1 μm × 1 μm ਵਰਗ ਸਕੈਨ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਰਿਕਾਰਡ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ। .ਨਾਲ।MountainsMap® ਪ੍ਰੀਮੀਅਮ ਸੌਫਟਵੇਅਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ 3D AFM ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਨਕਸ਼ਿਆਂ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ISO 25178-2:2012 29,30,31 ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, ਕਈ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨਿਕ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਦਾ ਦਸਤਾਵੇਜ਼ੀਕਰਨ ਅਤੇ ਚਰਚਾ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ, ਉਚਾਈ, ਕੋਰ, ਵਾਲੀਅਮ, ਅੱਖਰ, ਫੰਕਸ਼ਨ, ਸਪੇਸ ਅਤੇ ਸੁਮੇਲ ਪਰਿਭਾਸ਼ਿਤ ਕੀਤੇ ਗਏ ਹਨ।
ਤਾਜ਼ੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਨਮੂਨਿਆਂ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਅਤੇ ਰਚਨਾ ਦਾ ਅਨੁਮਾਨ ਉੱਚ-ਊਰਜਾ ਰਦਰਫੋਰਡ ਬੈਕਸਕੈਟਰਿੰਗ ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਸਕੋਪੀ (RBS) ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ MeV ਦੇ ਕ੍ਰਮ 'ਤੇ ਲਗਾਇਆ ਗਿਆ ਸੀ।ਗੈਸ ਦੀ ਜਾਂਚ ਦੇ ਮਾਮਲੇ ਵਿੱਚ, LSPR ਸਪੈਕਟਰੋਸਕੋਪੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ 350 ਤੋਂ 850 nm ਤੱਕ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦੀ ਰੇਂਜ ਵਿੱਚ ਇੱਕ UV-Vis ਸਪੈਕਟਰੋਮੀਟਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਇੱਕ ਪ੍ਰਤੀਨਿਧੀ ਨਮੂਨਾ 5.2 ਸੈਂਟੀਮੀਟਰ ਦੇ ਵਿਆਸ ਅਤੇ 13.8 ਸੈਂਟੀਮੀਟਰ ਦੀ ਉਚਾਈ ਵਾਲੇ ਇੱਕ ਬੰਦ ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਕਯੂਵੇਟ ਵਿੱਚ ਸੀ। 99.9 % CO ਗੈਸ ਵਹਾਅ ਦਰ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ 'ਤੇ (ਏਰੀਅਨ ਗੈਸ ਕੰਪਨੀ IRSQ ਸਟੈਂਡਰਡ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, 180 ਸਕਿੰਟਾਂ ਅਤੇ 600 ਸਕਿੰਟਾਂ ਲਈ 1.6 ਤੋਂ 16 l/h)।ਇਹ ਕਦਮ ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ, ਅੰਬੀਨਟ ਨਮੀ 19% ਅਤੇ ਫਿਊਮ ਹੁੱਡ 'ਤੇ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।
ਰਦਰਫੋਰਡ ਬੈਕਸਕੈਟਰਿੰਗ ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਸਕੋਪੀ ਇੱਕ ਆਇਨ ਸਕੈਟਰਿੰਗ ਤਕਨੀਕ ਵਜੋਂ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਰਚਨਾ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤੀ ਜਾਵੇਗੀ।ਇਹ ਵਿਲੱਖਣ ਵਿਧੀ ਕਿਸੇ ਸੰਦਰਭ ਸਟੈਂਡਰਡ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੇ ਬਿਨਾਂ ਮਾਤਰਾ ਨਿਰਧਾਰਤ ਕਰਨ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦੀ ਹੈ।RBS ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਨਮੂਨੇ 'ਤੇ MeV ਦੇ ਕ੍ਰਮ 'ਤੇ ਉੱਚ ਊਰਜਾ (He2+ ਆਇਨਾਂ, ਭਾਵ ਅਲਫ਼ਾ ਕਣਾਂ) ਨੂੰ ਮਾਪਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਦਿੱਤੇ ਗਏ ਕੋਣ 'ਤੇ He2+ ਆਇਨਾਂ ਪਿੱਛੇ ਖਿੰਡੇ ਹੋਏ ਹਨ।SIMNRA ਕੋਡ ਸਿੱਧੀਆਂ ਰੇਖਾਵਾਂ ਅਤੇ ਕਰਵ ਦੇ ਮਾਡਲਿੰਗ ਵਿੱਚ ਉਪਯੋਗੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ RBS ਸਪੈਕਟ੍ਰਾ ਨਾਲ ਇਸਦਾ ਮੇਲ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਨਮੂਨਿਆਂ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ।Cu/Ni NP ਨਮੂਨੇ ਦਾ RBS ਸਪੈਕਟ੍ਰਮ ਚਿੱਤਰ 1 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਲਾਲ ਲਾਈਨ ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ RBS ਸਪੈਕਟ੍ਰਮ ਹੈ, ਅਤੇ ਨੀਲੀ ਲਾਈਨ SIMNRA ਪ੍ਰੋਗਰਾਮ ਦਾ ਸਿਮੂਲੇਸ਼ਨ ਹੈ, ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਦੋ ਸਪੈਕਟ੍ਰਲ ਲਾਈਨਾਂ ਚੰਗੀਆਂ ਹਨ। ਸਮਝੌਤਾ।ਨਮੂਨੇ ਵਿੱਚ ਤੱਤਾਂ ਦੀ ਪਛਾਣ ਕਰਨ ਲਈ 1985 keV ਦੀ ਊਰਜਾ ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਘਟਨਾ ਬੀਮ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਉਪਰਲੀ ਪਰਤ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਲਗਭਗ 40 1E15Atom/cm2 ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ 86% Ni, 0.10% O2, 0.02% C ਅਤੇ 0.02% Fe ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਫੇ ਸਪਟਰਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਨੀ ਟੀਚੇ ਵਿੱਚ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਨਾਲ ਜੁੜਿਆ ਹੋਇਆ ਹੈ।ਅੰਡਰਲਾਈੰਗ Cu ਅਤੇ Ni ਦੀਆਂ ਚੋਟੀਆਂ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 1500 keV 'ਤੇ ਦਿਖਾਈ ਦਿੰਦੀਆਂ ਹਨ, ਅਤੇ C ਅਤੇ O2 ਦੀਆਂ ਚੋਟੀਆਂ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 426 keV ਅਤੇ 582 keV 'ਤੇ ਦਿਖਾਈ ਦਿੰਦੀਆਂ ਹਨ।Na, Si, ਅਤੇ Fe ਦੇ ਪੜਾਅ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 870 keV, 983 keV, 1340 keV, ਅਤੇ 1823 keV ਹਨ।
Cu ਅਤੇ Cu/Ni NP ਫਿਲਮ ਸਤਹਾਂ ਦੇ ਵਰਗ 3D ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ AFM ਚਿੱਤਰਾਂ ਨੂੰ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।2. ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਹਰੇਕ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਪੇਸ਼ ਕੀਤੀ ਗਈ 2D ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫੀ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ ਕਿ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਦੇਖੇ ਗਏ NPs ਗੋਲਾਕਾਰ ਆਕਾਰਾਂ ਵਿੱਚ ਇਕੱਠੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਇਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਗੋਡਸੇਲਾਹੀ ਅਤੇ ਅਰਮਾਂਡ32 ਅਤੇ ਅਰਮੰਡ ਐਟ ਅਲ.33 ਦੁਆਰਾ ਵਰਣਨ ਕੀਤੇ ਸਮਾਨ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਸਾਡੇ Cu NPs ਇਕੱਠੇ ਨਹੀਂ ਸਨ, ਅਤੇ ਸਿਰਫ਼ Cu ਵਾਲੇ ਨਮੂਨੇ ਨੇ ਮੋਟੇ (ਚਿੱਤਰ 2a) ਨਾਲੋਂ ਬਾਰੀਕ ਚੋਟੀਆਂ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ ਨਿਰਵਿਘਨ ਸਤਹ ਦਿਖਾਈ ਹੈ।ਇਸ ਦੇ ਉਲਟ, CuNi15 ਅਤੇ CuNi20 ਨਮੂਨਿਆਂ 'ਤੇ ਖੁੱਲ੍ਹੀਆਂ ਚੋਟੀਆਂ ਦਾ ਇੱਕ ਸਪੱਸ਼ਟ ਗੋਲਾਕਾਰ ਆਕਾਰ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤੀਬਰਤਾ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 2a ਅਤੇ b ਵਿੱਚ ਉਚਾਈ ਅਨੁਪਾਤ ਦੁਆਰਾ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਫਿਲਮ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਤੱਖ ਤਬਦੀਲੀ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ ਕਿ ਸਤ੍ਹਾ ਵਿੱਚ ਵੱਖੋ-ਵੱਖਰੇ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਸਥਾਨਿਕ ਢਾਂਚੇ ਹਨ, ਜੋ ਕਿ ਨਿਕਲਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।
Cu (a), CuNi15 (b), ਅਤੇ CuNi20 (c) ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀਆਂ AFM ਤਸਵੀਰਾਂ।ਢੁਕਵੇਂ 2D ਨਕਸ਼ੇ, ਉਚਾਈ ਵੰਡ ਅਤੇ ਐਬਟ ਫਾਇਰਸਟੋਨ ਕਰਵ ਹਰੇਕ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਏਮਬੇਡ ਕੀਤੇ ਗਏ ਹਨ।
ਨੈਨੋ ਕਣਾਂ ਦੇ ਔਸਤ ਅਨਾਜ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦਾ ਅੰਦਾਜ਼ਾ ਗੌਸੀਅਨ ਫਿਟ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ 100 ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲਾਂ ਨੂੰ ਮਾਪ ਕੇ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਵਿਆਸ ਵੰਡ ਹਿਸਟੋਗ੍ਰਾਮ ਤੋਂ ਲਗਾਇਆ ਗਿਆ ਸੀ ਜਿਵੇਂ ਕਿ FIG ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ Cu ਅਤੇ CuNi15 ਵਿੱਚ ਇੱਕੋ ਜਿਹੇ ਔਸਤ ਅਨਾਜ ਦੇ ਆਕਾਰ (27.7 ਅਤੇ 28.8 nm) ਹਨ, ਜਦੋਂ ਕਿ CuNi20 ਵਿੱਚ ਛੋਟੇ ਅਨਾਜ (23.2 nm) ਹਨ, ਜੋ ਕਿ ਗੋਡਸੇਲਾਹੀ ਐਟ ਅਲ ਦੁਆਰਾ ਦਰਸਾਏ ਗਏ ਮੁੱਲ ਦੇ ਨੇੜੇ ਹਨ।34 (ਲਗਭਗ 24 nm)।ਬਾਇਮੈਟਲਿਕ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਵਿੱਚ, ਸਥਾਨਿਕ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨ ਗੂੰਜ ਦੀਆਂ ਚੋਟੀਆਂ ਅਨਾਜ ਦੇ ਆਕਾਰ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀ ਨਾਲ ਬਦਲ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ35।ਇਸ ਸਬੰਧ ਵਿੱਚ, ਅਸੀਂ ਇਹ ਸਿੱਟਾ ਕੱਢ ਸਕਦੇ ਹਾਂ ਕਿ ਇੱਕ ਲੰਮਾ Ni ਜਮ੍ਹਾ ਸਮਾਂ ਸਾਡੇ ਸਿਸਟਮ ਦੀਆਂ Cu/Ni ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਪਲਾਜ਼ਮੋਨਿਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਦਾ ਹੈ।
(a) Cu, (b) CuNi15, ਅਤੇ (c) AFM ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫੀ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ CuNi20 ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੇ ਕਣ ਆਕਾਰ ਦੀ ਵੰਡ।
ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਬਣਤਰਾਂ ਦੀ ਸਥਾਨਿਕ ਸੰਰਚਨਾ ਵਿੱਚ ਬਲਕ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਵੀ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਸਾਰਣੀ 2 AFM ਨਕਸ਼ੇ ਨਾਲ ਸਬੰਧਿਤ ਉਚਾਈ-ਅਧਾਰਿਤ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਦੀ ਸੂਚੀ ਦਿੰਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਔਸਤ ਖੁਰਦਰੀ (Sa), skewness (Ssk), ਅਤੇ kurtosis (Sku) ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੇ ਮੁੱਲਾਂ ਦੁਆਰਾ ਵਰਣਨ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।Sa ਦੇ ਮੁੱਲ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 1.12 (Cu), 3.17 (CuNi15) ਅਤੇ 5.34 nm (CuNi20) ਹਨ, ਜੋ ਇਸ ਗੱਲ ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕਰਦੇ ਹਨ ਕਿ ਫਿਲਮਾਂ Ni ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੇ ਵਧਣ ਨਾਲ ਮੋਟਾ ਹੋ ਜਾਂਦੀਆਂ ਹਨ।ਇਹ ਮੁੱਲ ਅਰਮਾਨ ਐਟ ਅਲ.33 (1–4 nm), ਗੋਡਸੇਲਾਹੀ ਐਟ ਅਲ.34 (1–1.05 nm) ਅਤੇ Zelu et al.36 (1.91–6.32 nm) ਦੁਆਰਾ ਪਹਿਲਾਂ ਰਿਪੋਰਟ ਕੀਤੇ ਗਏ ਮੁੱਲਾਂ ਨਾਲ ਤੁਲਨਾਯੋਗ ਹਨ, ਜਿੱਥੇ ਇੱਕ ਸਮਾਨ Cu/Ni NPs ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਨੂੰ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਲਈ ਇਹਨਾਂ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਕੇ ਸਪਟਰਿੰਗ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਘੋਸ਼ ਐਟ ਅਲ.37 ਨੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡਪੋਜ਼ੀਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ Cu/Ni ਮਲਟੀਲੇਅਰਜ਼ ਨੂੰ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤਾ ਅਤੇ ਉੱਚ ਖੁਰਦਰੀ ਮੁੱਲਾਂ ਦੀ ਰਿਪੋਰਟ ਕੀਤੀ, ਜ਼ਾਹਰ ਤੌਰ 'ਤੇ 13.8 ਤੋਂ 36 nm ਦੀ ਰੇਂਜ ਵਿੱਚ।ਇਹ ਨੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ ਕਿ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨ ਦੇ ਢੰਗਾਂ ਦੁਆਰਾ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਗਠਨ ਦੇ ਗਤੀ ਵਿਗਿਆਨ ਵਿੱਚ ਅੰਤਰ ਵੱਖੋ-ਵੱਖਰੇ ਸਥਾਨਿਕ ਪੈਟਰਨਾਂ ਵਾਲੀਆਂ ਸਤਹਾਂ ਦੇ ਗਠਨ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦੇ ਹਨ।ਫਿਰ ਵੀ, ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ RF-PECVD ਵਿਧੀ 6.32 nm ਤੋਂ ਵੱਧ ਨਾ ਹੋਣ ਵਾਲੀ Cu/Ni NPs ਦੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਹੈ।
ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਉਚਾਈ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲ ਲਈ, ਉੱਚ-ਕ੍ਰਮ ਦੇ ਅੰਕੜਾਤਮਕ ਪਲ Ssk ਅਤੇ Sku ਕ੍ਰਮਵਾਰ ਉਚਾਈ ਵੰਡ ਦੀ ਅਸਮਿਤੀ ਅਤੇ ਸਧਾਰਣਤਾ ਨਾਲ ਸੰਬੰਧਿਤ ਹਨ।ਸਾਰੇ Ssk ਮੁੱਲ ਸਕਾਰਾਤਮਕ ਹਨ (Ssk > 0), ਇੱਕ ਲੰਮੀ ਸੱਜੇ ਟੇਲ38 ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ, ਜਿਸ ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਇਨਸੈੱਟ 2 ਵਿੱਚ ਉਚਾਈ ਵੰਡ ਪਲਾਟ ਦੁਆਰਾ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਸਾਰੇ ਉਚਾਈ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲਾਂ ਇੱਕ ਤਿੱਖੀ ਸਿਖਰ 39 (Sku > 3) ਦੁਆਰਾ ਹਾਵੀ ਸਨ। , ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਵਕਰ ਉਚਾਈ ਦੀ ਵੰਡ ਗੌਸੀਅਨ ਘੰਟੀ ਵਕਰ ਨਾਲੋਂ ਘੱਟ ਸਮਤਲ ਹੈ।ਉਚਾਈ ਵੰਡ ਪਲਾਟ ਵਿੱਚ ਲਾਲ ਲਾਈਨ ਐਬਟ-ਫਾਇਰਸਟੋਨ 40 ਕਰਵ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਡੇਟਾ ਦੀ ਆਮ ਵੰਡ ਦਾ ਮੁਲਾਂਕਣ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਢੁਕਵੀਂ ਅੰਕੜਾ ਵਿਧੀ ਹੈ।ਇਹ ਲਾਈਨ ਉਚਾਈ ਹਿਸਟੋਗ੍ਰਾਮ ਤੋਂ ਵੱਧ ਸੰਚਤ ਜੋੜ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਸਭ ਤੋਂ ਉੱਚੀ ਚੋਟੀ ਅਤੇ ਸਭ ਤੋਂ ਡੂੰਘੀ ਖੁਰਲੀ ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਘੱਟੋ-ਘੱਟ (0%) ਅਤੇ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ (100%) ਮੁੱਲਾਂ ਨਾਲ ਸੰਬੰਧਿਤ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਹ ਐਬਟ-ਫਾਇਰਸਟੋਨ ਕਰਵਜ਼ y-ਧੁਰੇ 'ਤੇ ਇੱਕ ਨਿਰਵਿਘਨ S-ਆਕਾਰ ਰੱਖਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਸਾਰੇ ਮਾਮਲਿਆਂ ਵਿੱਚ ਸਭ ਤੋਂ ਮੋਟੇ ਅਤੇ ਸਭ ਤੋਂ ਤੀਬਰ ਸਿਖਰ ਤੋਂ ਸ਼ੁਰੂ ਹੁੰਦੇ ਹੋਏ, ਕਵਰ ਕੀਤੇ ਖੇਤਰ ਨੂੰ ਪਾਰ ਕਰਨ ਵਾਲੀ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਪ੍ਰਤੀਸ਼ਤ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਪ੍ਰਗਤੀਸ਼ੀਲ ਵਾਧਾ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਸਥਾਨਿਕ ਢਾਂਚੇ ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਨਿਕਲ ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।
ਸਾਰਣੀ 3 AFM ਚਿੱਤਰਾਂ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਹਰੇਕ ਸਤਹ ਨਾਲ ਸੰਬੰਧਿਤ ਖਾਸ ISO ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਨੂੰ ਸੂਚੀਬੱਧ ਕਰਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਚੰਗੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਜਾਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਖੇਤਰ ਤੋਂ ਪਦਾਰਥ ਅਨੁਪਾਤ (Smr) ਅਤੇ ਕਾਊਂਟਰ ਖੇਤਰ ਤੋਂ ਪਦਾਰਥ ਅਨੁਪਾਤ (Smc) ਸਤਹ ਫੰਕਸ਼ਨਲ ਪੈਰਾਮੀਟਰ ਹਨ29।ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, ਸਾਡੇ ਨਤੀਜੇ ਦਿਖਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਮੱਧਮ ਸਮਤਲ ਤੋਂ ਉੱਪਰਲਾ ਖੇਤਰ ਸਾਰੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ (Smr = 100%) ਵਿੱਚ ਪੂਰੀ ਤਰ੍ਹਾਂ ਸਿਖਰ 'ਤੇ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, Smr ਦੇ ਮੁੱਲ ਭੂਮੀ 41 ਦੇ ਬੇਅਰਿੰਗ ਏਰੀਆ ਗੁਣਾਂਕ ਦੀਆਂ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਉਚਾਈਆਂ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਕਿਉਂਕਿ ਪੈਰਾਮੀਟਰ Smc ਜਾਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।Smc ਦੇ ਵਿਵਹਾਰ ਦੀ ਵਿਆਖਿਆ Cu → CuNi20 ਤੋਂ ਖੁਰਦਰੇਪਨ ਵਿੱਚ ਵਾਧੇ ਦੁਆਰਾ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ CuNi20 ਲਈ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਮੋਟਾਪਣ ਮੁੱਲ Smc ~ 13 nm ਦਿੰਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ Cu ਲਈ ਮੁੱਲ ਲਗਭਗ 8 nm ਹੈ।
ਬਲੈਂਡਿੰਗ ਪੈਰਾਮੀਟਰ RMS ਗਰੇਡੀਐਂਟ (Sdq) ਅਤੇ ਵਿਕਸਿਤ ਇੰਟਰਫੇਸ ਏਰੀਆ ਰੇਸ਼ੋ (Sdr) ਟੈਕਸਟਚਰ ਸਮਤਲਤਾ ਅਤੇ ਗੁੰਝਲਤਾ ਨਾਲ ਸਬੰਧਤ ਮਾਪਦੰਡ ਹਨ।Cu → CuNi20 ਤੋਂ, Sdq ਮੁੱਲ 7 ਤੋਂ 21 ਤੱਕ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਫਿਲਮਾਂ ਵਿੱਚ ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਬੇਨਿਯਮੀਆਂ ਵਧਦੀਆਂ ਹਨ ਜਦੋਂ Ni ਲੇਅਰ ਨੂੰ 20 ਮਿੰਟ ਲਈ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਨੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ ਕਿ CuNi20 ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ Cu ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਜਿੰਨੀ ਸਮਤਲ ਨਹੀਂ ਹੈ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਇਹ ਪਾਇਆ ਗਿਆ ਕਿ ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਦੀ ਗੁੰਝਲਤਾ ਨਾਲ ਜੁੜੇ ਪੈਰਾਮੀਟਰ Sdr ਦਾ ਮੁੱਲ, Cu → CuNi20 ਤੋਂ ਵਧਦਾ ਹੈ।Kamble et al.42 ਦੇ ਇੱਕ ਅਧਿਐਨ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਦੀ ਗੁੰਝਲਤਾ ਵਧਦੀ Sdr ਦੇ ਨਾਲ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ ਕਿ CuNi20 (Sdr = 945%) ਵਿੱਚ Cu ਫਿਲਮਾਂ (Sdr = 229%) ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ ਵਧੇਰੇ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਸਤਹ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਹੈ।.ਵਾਸਤਵ ਵਿੱਚ, ਟੈਕਸਟ ਦੀ ਸੂਖਮ ਗੁੰਝਲਤਾ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀ ਮੋਟੀਆਂ ਚੋਟੀਆਂ ਦੀ ਵੰਡ ਅਤੇ ਆਕਾਰ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮੁੱਖ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਜਿਸਨੂੰ ਪੀਕ ਘਣਤਾ (Spd) ਅਤੇ ਅੰਕਗਣਿਤ ਦਾ ਮਤਲਬ ਪੀਕ ਵਕਰਤਾ (Spc) ਦੇ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਤੋਂ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇਸ ਸਬੰਧ ਵਿੱਚ, Cu → CuNi20 ਤੋਂ Spd ਵਧਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ Ni ਪਰਤ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਵਧਣ ਨਾਲ ਚੋਟੀਆਂ ਵਧੇਰੇ ਸੰਘਣੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਸੰਗਠਿਤ ਹਨ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, Cu→CuNi20 ਤੋਂ Spc ਵੀ ਵਧਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ Cu ਨਮੂਨੇ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਚੋਟੀ ਦੀ ਸ਼ਕਲ ਵਧੇਰੇ ਗੋਲ ਹੈ (Spc = 612), ਜਦੋਂ ਕਿ CuNi20 ਦੀ ਸ਼ਕਲ ਵਧੇਰੇ ਤਿੱਖੀ ਹੈ (Spc = 925)।
ਹਰੇਕ ਫਿਲਮ ਦਾ ਮੋਟਾ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲ ਸਤਹ ਦੇ ਸਿਖਰ, ਕੋਰ ਅਤੇ ਖੁਰਦ ਵਾਲੇ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਵੱਖਰੇ ਸਥਾਨਿਕ ਪੈਟਰਨ ਵੀ ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਕੋਰ (Sk) ਦੀ ਉਚਾਈ, ਘਟਦੀ ਸਿਖਰ (Spk) (ਕੋਰ ਦੇ ਉੱਪਰ), ਅਤੇ ਖੁਰਲੀ (Svk) (ਕੋਰ ਦੇ ਹੇਠਾਂ) 31,43 ਮਾਪਦੰਡ ਹਨ ਜੋ ਸਤਹ ਦੇ ਸਮਤਲ ਉੱਤੇ ਲੰਬਕਾਰ ਮਾਪਦੇ ਹਨ 30 ਅਤੇ Cu → CuNi20 ਦੇ ਕਾਰਨ ਵਧਦੇ ਹਨ। ਸਤਹ roughness ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਵਾਧਾ .ਇਸੇ ਤਰ੍ਹਾਂ, ਪੀਕ ਮਟੀਰੀਅਲ (Vmp), ਕੋਰ ਮਟੀਰੀਅਲ (Vmc), ਟਰੱਫ ਵੋਇਡ (Vvv), ਅਤੇ ਕੋਰ ਵੋਇਡ ਵਾਲੀਅਮ (Vvc)31 ਉਹੀ ਰੁਝਾਨ ਦਿਖਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿਉਂਕਿ ਸਾਰੇ ਮੁੱਲ Cu → CuNi20 ਤੋਂ ਵਧਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਵਿਵਹਾਰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ CuNi20 ਸਤਹ ਦੂਜੇ ਨਮੂਨਿਆਂ ਨਾਲੋਂ ਵਧੇਰੇ ਤਰਲ ਰੱਖ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਸਕਾਰਾਤਮਕ ਹੈ, ਇਹ ਸੁਝਾਅ ਦਿੰਦਾ ਹੈ ਕਿ ਇਸ ਸਤਹ ਨੂੰ ਸਮੀਅਰ ਕਰਨਾ ਆਸਾਨ ਹੈ44।ਇਸ ਲਈ, ਇਹ ਨੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ ਕਿ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਨਿੱਕਲ ਪਰਤ ਦੀ ਮੋਟਾਈ CuNi15 → CuNi20 ਤੋਂ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀਆਂ ਉੱਚ-ਕ੍ਰਮ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨਿਕ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਵਿੱਚ ਤਬਦੀਲੀਆਂ ਤੋਂ ਪਿੱਛੇ ਰਹਿ ਜਾਂਦੀਆਂ ਹਨ, ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਅਤੇ ਫਿਲਮ ਦੇ ਸਥਾਨਿਕ ਪੈਟਰਨ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ।
ਵਪਾਰਕ MountainsMap45 ਸੌਫਟਵੇਅਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਇੱਕ AFM ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਨਕਸ਼ਾ ਬਣਾ ਕੇ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤਹ ਦੇ ਸੂਖਮ ਟੈਕਸਟ ਦਾ ਇੱਕ ਗੁਣਾਤਮਕ ਮੁਲਾਂਕਣ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਰੈਂਡਰਿੰਗ ਚਿੱਤਰ 4 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਈ ਗਈ ਹੈ, ਜੋ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਸਬੰਧ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਪ੍ਰਤੀਨਿਧੀ ਝਰੀ ਅਤੇ ਇੱਕ ਧਰੁਵੀ ਪਲਾਟ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ।ਸਾਰਣੀ 4 ਸਲਾਟ ਅਤੇ ਸਪੇਸ ਵਿਕਲਪਾਂ ਨੂੰ ਸੂਚੀਬੱਧ ਕਰਦੀ ਹੈ।ਗਰੂਵਜ਼ ਦੀਆਂ ਤਸਵੀਰਾਂ ਦਰਸਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ ਕਿ ਨਮੂਨੇ ਵਿੱਚ ਚੈਨਲਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਦਾ ਦਬਦਬਾ ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਗਰੂਵਜ਼ ਦੀ ਇੱਕ ਸਪਸ਼ਟ ਸਮਰੂਪਤਾ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਅਧਿਕਤਮ ਗਰੋਵ ਡੂੰਘਾਈ (MDF) ਅਤੇ ਔਸਤ ਗਰੋਵ ਡੂੰਘਾਈ (MDEF) ਦੋਵਾਂ ਲਈ ਮਾਪਦੰਡ Cu ਤੋਂ CuNi20 ਤੱਕ ਵਧਦੇ ਹਨ, CuNi20 ਦੀ ਲੁਬਰੀਸਿਟੀ ਸਮਰੱਥਾ ਬਾਰੇ ਪਿਛਲੇ ਨਿਰੀਖਣਾਂ ਦੀ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਨੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ ਕਿ Cu (Fig. 4a) ਅਤੇ CuNi15 (Fig. 4b) ਦੇ ਨਮੂਨਿਆਂ ਵਿੱਚ ਅਮਲੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੱਕੋ ਰੰਗ ਦੇ ਪੈਮਾਨੇ ਹਨ, ਜੋ ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਨੀ ਫਿਲਮ 15 ਲਈ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੇ ਜਾਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ Cu ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਬਦਲਾਅ ਨਹੀਂ ਹੋਏ ਹਨ। ਮਿੰਟਇਸਦੇ ਉਲਟ, CuNi20 ਨਮੂਨਾ (Fig. 4c) ਵੱਖ-ਵੱਖ ਰੰਗਾਂ ਦੇ ਸਕੇਲਾਂ ਨਾਲ ਝੁਰੜੀਆਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਇਸਦੇ ਉੱਚ MDF ਅਤੇ MDEF ਮੁੱਲਾਂ ਨਾਲ ਸੰਬੰਧਿਤ ਹੈ।
Cu (a), CuNi15 (b), ਅਤੇ CuNi20 (c) ਫਿਲਮਾਂ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਸਚਰ ਦੇ ਗਰੂਵਜ਼ ਅਤੇ ਸਤਹ ਆਈਸੋਟ੍ਰੋਪੀ।
ਅੰਜੀਰ ਵਿੱਚ ਧਰੁਵੀ ਚਿੱਤਰ।4 ਇਹ ਵੀ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਸਤਹ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਵੱਖਰਾ ਹੈ।ਇਹ ਧਿਆਨ ਦੇਣ ਯੋਗ ਹੈ ਕਿ ਇੱਕ ਨੀ ਪਰਤ ਦਾ ਜਮ੍ਹਾ ਸਥਾਨ ਸਥਾਨਿਕ ਪੈਟਰਨ ਨੂੰ ਮਹੱਤਵਪੂਰਣ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਬਦਲਦਾ ਹੈ।ਨਮੂਨਿਆਂ ਦੀ ਗਣਨਾ ਕੀਤੀ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਸਟੁਰਲ ਆਈਸੋਟ੍ਰੋਪੀ 48% (Cu), 80% (CuNi15), ਅਤੇ 81% (CuNi20) ਸੀ।ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਨੀ ਪਰਤ ਦਾ ਜਮ੍ਹਾ ਇੱਕ ਹੋਰ ਆਈਸੋਟ੍ਰੋਪਿਕ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਦੇ ਗਠਨ ਵਿੱਚ ਯੋਗਦਾਨ ਪਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਸਿੰਗਲ ਲੇਅਰ Cu ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਵਧੇਰੇ ਐਨੀਸੋਟ੍ਰੋਪਿਕ ਸਤਹ ਮਾਈਕ੍ਰੋਟੈਕਚਰ ਹੈ।ਇਸ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, CuNi15 ਅਤੇ CuNi20 ਦੀਆਂ ਪ੍ਰਮੁੱਖ ਸਥਾਨਿਕ ਫ੍ਰੀਕੁਐਂਸੀ Cu ਨਮੂਨਿਆਂ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਵੱਡੀ ਸਵੈ-ਸੰਬੰਧੀ ਲੰਬਾਈ (Sal)44 ਦੇ ਕਾਰਨ ਘੱਟ ਹਨ।ਇਹ ਇਹਨਾਂ ਨਮੂਨਿਆਂ (Std = 2.5° ਅਤੇ Std = 3.5°) ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਸਮਾਨ ਅਨਾਜ ਸਥਿਤੀ ਨਾਲ ਵੀ ਜੋੜਿਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ Cu ਨਮੂਨੇ (Std = 121°) ਲਈ ਇੱਕ ਬਹੁਤ ਵੱਡਾ ਮੁੱਲ ਦਰਜ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਇਹਨਾਂ ਨਤੀਜਿਆਂ ਦੇ ਅਧਾਰ 'ਤੇ, ਸਾਰੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ, ਟੌਪੋਗ੍ਰਾਫਿਕ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲਾਂ, ਅਤੇ ਖੁਰਦਰੇਪਨ ਦੇ ਕਾਰਨ ਲੰਬੀ-ਸੀਮਾ ਦੇ ਸਥਾਨਿਕ ਭਿੰਨਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ।ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ, ਇਹ ਨਤੀਜੇ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ Ni ਪਰਤ ਜਮ੍ਹਾ ਹੋਣ ਦਾ ਸਮਾਂ CuNi ਬਾਈਮੈਟਾਲਿਕ ਸਪਟਰਡ ਸਤਹਾਂ ਦੇ ਗਠਨ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦਾ ਹੈ।
ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ ਤੇ ਹਵਾ ਵਿੱਚ Cu/Ni NPs ਦੇ LSPR ਵਿਵਹਾਰ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕਰਨ ਲਈ ਅਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ CO ਗੈਸਾਂ ਦੇ ਵਹਾਅ 'ਤੇ, UV-Vis ਸਮਾਈ ਸਪੈਕਟਰਾ ਨੂੰ 350–800 nm ਦੀ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਰੇਂਜ ਵਿੱਚ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ CuNi15 ਅਤੇ CuNi20 ਲਈ ਚਿੱਤਰ 5 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਵੱਖ-ਵੱਖ CO ਗੈਸ ਵਹਾਅ ਦੀ ਘਣਤਾ ਨੂੰ ਪੇਸ਼ ਕਰਨ ਨਾਲ, ਪ੍ਰਭਾਵੀ LSPR CuNi15 ਪੀਕ ਵਿਆਪਕ ਹੋ ਜਾਵੇਗੀ, ਸਮਾਈ ਮਜ਼ਬੂਤ ਹੋਵੇਗੀ, ਅਤੇ ਸਿਖਰ ਹਵਾ ਦੇ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਿੱਚ 597.5 nm ਤੋਂ 16 L/h 606.0 nm ਤੱਕ, ਉੱਚ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਵਿੱਚ ਸ਼ਿਫਟ (ਲਾਲ ਸ਼ਿਫਟ) ਹੋ ਜਾਵੇਗਾ।180 ਸਕਿੰਟਾਂ ਲਈ CO ਵਹਾਅ, 606.5 nm, CO ਵਹਾਅ 16 l/h 600 ਸਕਿੰਟਾਂ ਲਈ।ਦੂਜੇ ਪਾਸੇ, CuNi20 ਇੱਕ ਵੱਖਰਾ ਵਿਵਹਾਰ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਇਸਲਈ CO ਗੈਸ ਦੇ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਿੱਚ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ LSPR ਪੀਕ ਵੇਵ-ਲੰਬਾਈ ਸਥਿਤੀ (ਨੀਲੀ ਸ਼ਿਫਟ) ਵਿੱਚ ਹਵਾ ਦੇ ਵਹਾਅ ਵਿੱਚ 600.0 nm ਤੋਂ 589.5 nm ਤੱਕ 16 l/h CO ਦੇ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਿੱਚ 180 s ਲਈ ਕਮੀ ਆਉਂਦੀ ਹੈ। .589.1 nm 'ਤੇ 600 ਸਕਿੰਟਾਂ ਲਈ 16 l/h CO ਵਹਾਅ।CuNi15 ਦੇ ਨਾਲ, ਅਸੀਂ CuNi20 ਲਈ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ਾਲ ਸਿਖਰ ਅਤੇ ਵਧੀ ਹੋਈ ਸਮਾਈ ਤੀਬਰਤਾ ਦੇਖ ਸਕਦੇ ਹਾਂ।ਇਹ ਅੰਦਾਜ਼ਾ ਲਗਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ Cu 'ਤੇ Ni ਪਰਤ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਵਿੱਚ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, CuNi15 ਦੀ ਬਜਾਏ CuNi20 ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੇ ਆਕਾਰ ਅਤੇ ਸੰਖਿਆ ਵਿੱਚ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, Cu ਅਤੇ Ni ਕਣ ਇੱਕ ਦੂਜੇ ਦੇ ਨੇੜੇ ਆਉਂਦੇ ਹਨ, ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਔਸਿਲੇਸ਼ਨਾਂ ਦਾ ਐਪਲੀਟਿਊਡ ਵਧਦਾ ਹੈ। , ਅਤੇ, ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ, ਬਾਰੰਬਾਰਤਾ ਵਧ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਜਿਸਦਾ ਅਰਥ ਹੈ: ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਘਟਦੀ ਹੈ, ਇੱਕ ਨੀਲੀ ਸ਼ਿਫਟ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।
ਪੋਸਟ ਟਾਈਮ: ਅਗਸਤ-16-2023